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에어로졸 데포지션 방법으로 증착한 산화막 두께에 따른갈륨옥사이드/실리콘 카바이드 다이오드의 전기적 특성 (Comparing Electrical Characteristics of Ga2O3/4H-SiC Heterojunctions with Varying Thickness by Aerosol-Deposition)

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최초등록일 2025.04.27 최종젿작일 2024.09
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에어로졸 데포지션 방법으로 증착한 산화막 두께에 따른갈륨옥사이드/실리콘 카바이드 다이오드의 전기적 특성
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    서정뵖

    · 발행기관 : 한국전기전자학회
    · 수록지 정보 : 전기전자학회논지 / 28권 / 3호 / 285 ~ 289페이짿
    · 저자명 : 이현우, 최지수, 조영훈, 문수영, 이건희, 구상모

    초록

    에어로졸 데포지션(Aerosol Deposition) 기술을 활용하여 4H-SiC(Silicon Carbide) 기판 상에 Ga2O3(Gallium Oxide) 막을1㎛왿 5㎛의 두께로 증착하였다. 이후에는 산화막 두께의 변화가 다이오드의 전기적 특성에 미치는 영향을 분석하였으며 실험 결과,두꺼운 박막에서는 소자가 낮은 전압에서 동작하는 것을 확인했으나, 반면에 얇은 박막에서는 전류의 흐름이 비교적 더 가파르게나타남이 측정되었다. 이를 통해, 박막의 원활한 전기적 특성을 조절하기 위해서는 박막의 두께가 중요함을 확인하였다.

    영어초록

    Utilizing Aerosol Deposition technology, we deposited Ga2O3 films onto 4H-SiC substrates with thicknesses of 1and 5㎛. Subsequently, we analyzed the impact of oxide film thickness variation on the electrical characteristics ofdiodes. Experimental findings revealed that thicker films exhibited device operation at lower voltages, whereasthinner films demonstrated comparatively steeper current flow. This underscores the critical importance ofcontrolling film thickness for optimizing the smooth electrical characteristics of the film.

    참고자료

    · 없음
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