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반도체공학의 공정

반도체 공학의 공정설명 입니다.
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최초등록일 2009.07.09 최종젿작일 2007.04
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반도체공학의 공정
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    소개

    반도체 공학의 공정설명 입니다.

    목차

    • Chemical Vapor Deposition (CVD)
    • Physical Vapor Deposition (PVD)
    • Diffusion
    • Photo
    • Etch

    본내용

    • Chemical Vapor Deposition (CVD)

    공구재료에의 요구특성으로는 내마모성을 비롯해 정적기계강도, 피로강도, 파괴인성, 내열성, 내산화성 등 피 가공물과의 화학적 친화성 등을 들 수 있다.
    이러한 재료특성간의 중요성정도는 절삭용도나 내마모용도 등의 용도분류에 따라서, 또, 사용조건에 따라서도 다르지만, 이러한 특성을 동시에 만족시키지 못하면 뛰어난 공구재료라고는 할 수 없다.
    그 때문에 공구재료 의 개발 및 개량이 적극적으로 행해져, 탄소공구강, 합금공구강, 다이스강, 고속도강등의 공구강을 비롯해, 스테라이트, 초경합금, 서미트, 세라믹, CBN 소결체, 다이아몬드 소결체 등 이 탄생했지만, 과거 10수년간에 단번에 수요가 확대한 코팅 공구가 공구 재료면에서의 개량에 대한 역할이 크다.
    코팅공구란 일반적으로 초경합금, 고속도강등의 표면에 TiC, TiN, AlO등의 경질무기화합물(경질 세라믹)을 기상반응을 이용해서 증착 피복한 공구를 말한다. 기상코팅의 하나인 방법으로의 CVD는 Chemical Vapor Depo sition의 약자로 기상에서 고상을 석출하는 과정으로 화학적 증착법이라고 불리는 방법이며, 진공증착, 스파터링, 이온프 레팅등의 물리적 증착법(PVD: Physical Vapor Deposition)과 구별해서 제안된 명칭이다.
    이 기술은 로 안에서 가열된 처리품에 피막성분을 함유하는 원료의 혼합가스를 접촉시켜 기 상반응에 의해 탄화물, 질소물, 산화물등의 광범위한 피막을 생성시키는 증착법으로 최근 주목되고 있는 세라믹 코팅의 일종이다.
    이러한 초경질피막을 코팅해서 공구, 금형 및 기계부품의 수명을 연장시킬 목적으로 이용되고부터, 기계공업, 일렉트로닉스, 원자력, 광학 등의 광범위한 분야로 응용되고 있다.

    참고자료

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