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소개
총 19편으로 구성되어 있으며 해당 포토공정 공부를 통해 반도체 회사에 입사할 수 있었습니다.
반도체업계 취업준비를 하고 있다면 큰 도움이 되실거에요!목차
1. 분해능과 초점심도
2. 미세공정
3. 미세공정시 생기는 문제점본내용
이번시간은 'Photo공정의 성능 요소 2가지인 분해능과 초점심도'에 대해서 계속 알아보겠습니다.
우리가 일반적으로 포토공정의 성능이 좋다고 하면 어떤걸 말하는 걸까요?
여러가지가 있겠지만 가장 일반적으로 성능을 판단하는 기준은 얼마나 작은 패턴을 만들수 있느냐, 정확한 형태의 패턴을 만들 수 있느냐 크게 2가지 입니다.
얼마나 작은 패턴을 만들 수 있느냐 = 분해능(Resolution)
정확한 패턴을 만들 수 있는 초점의 범위 영역 = 초점심도(DOF)라고 생각하시면 쉽습니다.
우리가 빛과 관련된 법칙 중에 유명한 법칙이 레일리의 법칙입니다.
레일리의 법칙은 아래왿 같습니다.
* 분해능과 초점심도
- 분해능(Resolution, RES) : 해상도라고 생각하면 쉬우며, Pattern을 웨이퍼에 전사하는 한계, 미세화 가능여부 정도. RES 값은 작을수록 좋음.
- 초점심도(Depth of Focus, DOF) : 초점을 맞출 수 있는 범위(값이 클수록 좋음)
공식으 통해 추론해보면 NA lens(lens의 크기) 개구수를 작게하면 Resolution 분해능 값이 커지면서 패턴미세화가 어려워지거나 DoF(즉 Margin) 값은 커지면서 초점심도는 좋아진다. 패턴이 미세화될수록 초점심도는 작아진다 > 즉 미세패턴이 만들기 더 어렵다는 것을 의미함. (RES왿 DOF는 양립하기 어렵다)참고자료
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