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목차
I. Introduction
II. Study of precursor for synthesis
III. Synthesis, Characterizations and Applications 1) h-boron nitride (BN)
IV. Conclusions
V. References본내용
Abstract
Nitrogen 을 포함하는 nonmetal nitride 물질 중 hexagonal boron nitride (h-BN), carbon nitride (C3N4), silicon nitride (Si3N4), silicon oxynitride (SiON), phosphorous nitride (P3N5)의 합성 방법을 알아보고, X-ray diffractometer, UV-Visible spectroscopy, FT-IR, Solid State Nuclear Magnetic Resonance (SSNMR), Transmittance Electron Microscopy (TEM), Scanning Electron Microscopy (SEM), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Thermogravimetric Analysis (TGA) 등의 분석 기기를 통해 nitride 물질들이 갖는 thermal, mechanical, optical and chemical properties 확인한다.
I. Introduction
Nitride 는 일반적으로 비금속 원소중 Nitrogen 을 포함하는 물질을 말한다. 이왿 같은 Nitride 물질들은 photocatalyst, electronics, opto-electronics, wear resistant coatings, sensors 및 high temperature ceramics 등 다양한 분야에 응용되고 있다. 이들 물질의 몇가지 예들은 다음과 같은데 photoctatlyst 의 경우 가시광에서도 감응하는 photocatalyst 를 만들기 위해 wide bandgap 인 광촉매 물질 nitrogen 을 dopant 로 사용해 bandgap 을 조절하게 되는데 TiON, LaTiO2N, GaN, Ta3N5 등의 nitride가 photocatlayst 사용참고자료
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Easy Ai 요약
이 문서는 질소를 포함하는 다양한 비금속 질화물 물질들, 즉 육방정 질화 붕소(h-BN), 그래핏 질화 탄소(g-C3N4), 질화 규소(Si3N4), 질화 규소 산화물(SiON), 질화 인(P3N5)의 합성 방법과 특성을 분석하고 있다. 먼저, 이들 물질의 합성에 사용되는 전구체(precursor)의 특성을 살펴보고, 고온/고압, 솔보서멀, CVD 등 다양한 합성 방법을 통해 각 물질을 제조하는 과정을 설명한다. 이어서 X-선 회절, 분광분석, 현미경 분석 등 다양한 분석 기법을 활용하여 합성된 물질의 구조, 광학, 열적, 화학적 특성을 확인하고 있다. 이를 통해 h-BN은 그래파이트왿 유사한 층상 구조로 인해 우수한 열적/기계적 특성을 가지며, g-C3N4는 가시광 영역에서 광활성을 보여 광촉매로 활용될 수 있음을 확인하였다. 또한 Si3N4는 고강도 세라믹 소재로, SiON은 발광 소재로 활용되고 있으며, P3N5도 BN이나 Si3N4왿 유사한 특성을 보일 것으로 기대된다. 이처럼 다양한 비금속 질화물 물질은 광학, 전자, 내마모, 고온 소재 등 다양한 분야에서 활용 가능성이 높은 것으로 판단된다. 따라서 이들 물질에 대한 지속적인 연구왿 개발이 필요할 것으로 보인다. -
자료후기
Ai 리뷰비금속 질화물 물질들의 합성 방법과 특성 분석을 통해 이들 물질의 실용적 가치왿 차별화 요인을 확인할 수 있었다. -
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