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[재료공학실험]thermal evaporation system

열착방법
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최초등록일 2006.06.03 최종젿작일 2006.03
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[재료공학실험]thermal evaporation system
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    소개

    열착방법

    목차

    열 증발 증착법(순수저항이용)
    용어설명
    실험방법
    반도체공정에서 evaporation 쓰이는 예

    본내용

    일반적으로 박막 증착 공정은 크게 화학 공정(chemical process)왿 물리 공정(physical process)의 두 가지로 크게 나뉠 수 있으며 이러한 분류를 그림 5.3.4-1 상세히 나타내었다. 여러 가지 박막 증착 기술 중에서 중요한 공정으로서 기화법(Evaporation), 분자선증착법(Molecular Beam Epitaxy : MBE), 스퍼터링(Sputtering), 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition;CVD), 도금(Plating), 솔젤법(Sol-Gel coating) 등이 산업적으로 응용되고 있다.
    기화법 (Evaporation)
    가장 간단한 박막 증착법인 진공 기화법은 대부분의 물질들을 증착하는데 사용할 수 있는 기초적인 증착법이다. 이 방법은 물리 기상 증착 공정으로 빠른 증착 속도왿 단순하고 조작이 용이하다는 이점을 가지고 있다. 진공 증착법은 전자 회로나 소자의 전극 물질을 증착하는데 주로 이용되고 있으며 유기물 등의 증착을 위해서 사용되기도 한다. 진공 기화법은 패러데이(Faraday)에 의해 시작되었는데, 그는 진공 상태에서 금속선을 이용하여 시도하였다. 패러대이의 이러한 시도는 1880년 후반 열 기화법(thermal evaporation)을 발명하는 기초가 되었다. 수년동안, 이 방법에 의해 증착되어진 박막의 특성과 영향에 대한 연구가 진행되어졌지만 실제로 1940-50년까지 이 기술이 응용되어진 바는 거의 없었다.
    진공 기화법은 진공 상태에서 가열되어진 금속 물질이 기화되거나 승화시켜 증착하는 방법으로 다양한 금속 물질들을 증착시키는데 이용되고 있다. 이렇게 기화되어진 금속

    참고자료

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